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质谱仪——PrismaTM真空残余气体质谱 |
显著特点：
紧凑--易于和真空系统集成 |
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| 高灵敏度和高检测极限 |
| 视窗软件,功能齐全 |
| 64种谱库 |
| 专门的残余气体分析模块,分压检测 |
| 双灯丝 |
| 双路模拟输入和四路输出信号 |
| 快速放大,高动态范围,自动切换量程 |
| 峰位稳定,自动校准电子学零漂 |
| 耐烘烤温度最高到300°C,90度转角空间节省型可选 |
技术参数
PrismaTM |
QMS200F |
QMS200M |
质量数范围amu
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1~100 |
1~100 |
1~200 |
1~200
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1~300 |
1~300 |
| 检测器 |
法拉第筒 |
法拉第+倍增器 |
| 检测极限mbar(和质量数有关) |
<4*10-12 |
<2*10-11/<10-14 |
| Ar的灵敏度A/mbar |
>1*10-3 |
>5*10-4/200 |
| 最大工作压强mbar |
1*10-4 |
1*10-4/1*10-5 |
| 重量kg |
3 |
4.4 |
| 接口法兰 |
DN 40 CF-F |
DN 40 CF-F |
| 四极杆 直径/长度 mm |
6/100 |
6/100 |
| 工作温度/分析器°C |
150 |
120 |
应用领域：
| 空残余气体分析 |
超高真空残余气体分析, |
| 溅射过程气体分析 |
等离子体过程气体分析, |
| 蒸发材料气体分析 |
在线气体分析, |
| 微量夹杂气体分析 |
呼吸气体分析 |
| 充气气体成分分析 |
同位素分析 |
| 光学镜片清洁度检测 |
电子显微镜水分检测 |
| 半导体基片清洁度检测 |
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